光刻胶
光刻胶（Photoresist），别称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。它是由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光查看详情>刻胶，可在表面上得到所需的图像。
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为什么说光刻胶对中国半导体至关重要？
关键半导体材料自主研发，前途光明但道路曲折。全行业“缺芯”，缺的到底是什么？高盛报告指出，全球有多达169个行业不同程度地受到芯片短缺的影响。“缺芯”已然成为老生常谈。在全球疫情严峻导致产能利用率不足
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谁说硬件设备不赚钱了？2021全年光刻机巨头ASML营收净利巨增
【全球存储观察 ｜ 科技明说】暴利依然暴利，光刻机巨头依然营收净利巨增。2021全年营收超千亿元，净利润超400亿元。谁说硬件不赚钱了？关键是做什么硬件，是做高精尖的极紫外光刻机，还是做薄利多销的PC台式机，同样是机器，但利润差距就是这样大
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